高端椭偏仪系列产品

 
单价: 面议
起订: 1 套
供货总量: 100 套
发货期限: 自买家付款之日起 10 天内发货
所在地: 北京
有效期至: 长期有效
最后更新: 2015-08-19 14:10
浏览次数: 84
 
公司基本资料信息
详细说明
       本项目目标是致力于自主知识产权的高端椭偏仪的研制,在现有成功研制的宽光谱广义椭偏仪工程样机基础上,首先推进穆勒型椭偏仪的开发,在测量光谱范围向紫外扩展、微光斑探测、测量精度和仪器可靠性等方面达到国际前列;在宽光谱广义椭偏仪开发基础上,通过减配实现单旋转补偿器型光谱椭偏仪,从而很快能实现光谱型椭偏仪工程样机研制;成像穆勒矩阵椭偏仪的研制在宽光谱广义椭偏仪基础上加了成像系统模块和光谱扫描系统模块,实现样品横向的穆勒矩阵分布图与三维结构形貌图,通过原理样机验证和工程样机试制。
       本项目的核心技术新颖性、先进性和独创性体现在:
       (1)我们研制出了从紫外到红外宽波段范围(210~1000nm)内的消色差复合波片用作补偿器,相比国内外同类产品所采用的液晶调制型补偿器(只能做到450~1000nm,而且受温度影响较大)具有明显的技术优势。
       (2)我们自主研制的高光强宽谱复合光源的应用,可以有效提高微光斑探测光强和信噪比,相比国内外同类产品通常只能做到光束直径200μm,我们的入射光束直径可以做到小于100μm。新的设计方案引入激光激发光源结合反射式光路设计,有望将光斑延拓至25~50μm以下。
       (3)对于穆勒型椭偏仪,我们采用双旋转补偿器型的光路设计,相比目前国内外一些椭偏仪产品,可以在1~15s以内实现包括椭偏参数与穆勒矩阵等在内的光学参数的快速精确测量,能够很好地满足实时在线的测量需求。
       (4)对于成像型椭偏仪,采用全面幅聚焦技术(离轴成像技术,不需要物镜扫描),完美解决由于椭偏仪斜角入射,物镜焦平面和样品表面相交只能线聚焦样品,因此需要物镜扫描获取全面幅聚焦照片的难题。
       知识产权及获奖情况:本项目相关的核心技术具有完全的自主知识产权,共申请了26项国际、国内发明专利保护,其中已获授权发明专利8项。
 
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